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O livro foi organizado e escrito por especialistas de grande reconhecimento em suas áreas de atuação. O texto oferece abordagens rigorosas de várias das principais técnicas de análise estrutural, química e de reações de superfícies, envolvendo fundamentos e aplicações. Os capítulos são cobertos de tecnologia de vácuo, espectroscopia de fotoelétrons excitados por raios X (XPS) e por ultravioleta (UPS), espectroscopia de elétrons Auger (AES), espectroscopia de fotoabsorção, dessorção estimulada por elétrons e fótons, difração de fotoelétrons (PED) e de elétrons de baixa energia (LEED), e também microscopia de força atômica (AFM).
Cristiana Carneiro, Sébastien Ponnou
Elizabete F. Lucas, Luciana S. Ferreira, Bruna F. Alves
Charles André
José Sergio Leite Lopes (Org.), Felipe Magaldi, Lucas Pedretti, Luciana Lombardo, Virna Plastino
José Sergio Leite Lopes (Org.), Beatriz Heredia (Org.)
Aída Marques
Bernardo Oliveira, Nastassja Pugliese, Gisele Secco
Marlon Miguel
Mario Luis Grangeia
Ana Paula Fontana, Fernanda dos Santos Lima
Émile Jaques-Dalcroze
Alice Fátima Martins (org.)
Augusto Veloso Leão (Org.), Danilo Guiral Bassi (org.)
Felipe Scovino
Luidi Simonetti, Rosiane de Freitas Rodrigues, Ana Flavia Uzeda Macambira (Org.), Nelson Maculan Filho
Monica do Nascimento Figueiredo
Homero Antonio Strini Velho (Trad.)
Marcia Sá Cavalcante Schuback
Carlos Gomes de Castro (Org.)
Maria Raquel Passos Lima